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掃描電子顯微鏡（SEM）

 

掃描電子顯微鏡(SEM)分析材料表面形貌最常用的工具之一。電子槍發(fā)射的電子束，經(jīng)過幾級電磁透鏡聚焦后，照射到樣品表面，激發(fā)樣品中的二次電子，二次電子被探測器接收，通過信號處理并調(diào)制顯示器上一個像素發(fā)光，從而得到樣品表面形貌信息。圖像中亮的區(qū)域電子信號較多，而暗的區(qū)域電子信號較少。

 

SEM技術(shù)性能

信號檢測
二次及背散電子

元素檢測
B-U (EDS mode)

檢測極限
0.1 - 1% （原子百分比）

深度分辨率
0.5 - 3 µm (EDS)

成像/繪圖
是

橫向分辨率/探頭尺寸
15 - 45 Å

 

SEM的理想用途

·         高分辨率成像

·         元素微觀分析及顆粒特征化描述

 

SEM應(yīng)用領(lǐng)域

·         航天航空

·         汽車

·         生物醫(yī)學(xué)與生物技術(shù)

·         化合物半導(dǎo)體

·         數(shù)據(jù)存儲

·         國防

·         顯示器

·         電子

·         工業(yè)產(chǎn)品

·         照明

·         制藥

·         光子學(xué)

·         聚合物

·         半導(dǎo)體

·         太陽能光伏發(fā)電

·         電信

 

SEM分析的優(yōu)勢

·         快速 、高分辨率成像

·         快速識別呈現(xiàn)元素

·         適合的井深

·         支持許多其他工具的多功能平臺

 

SEM分析的局限性

·         通常需要真空兼容

·         可能需要蝕刻來作對比

·         SEM可能會損壞樣品表面，影響隨后的分析

·         尺寸限制可能要求切割樣品

·         最終的分辨率與樣品的制備有關(guān)